JIS K 0143:2000
表面化學分析.次級離子質(zhì)譜法.利用均勻摻雜材料測定硅中硼原子濃度
Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
2023-02
- 標準號
- JIS K 0143:2000
- 發(fā)布
- 2000年
- 發(fā)布單位
- 日本工業(yè)標準調(diào)查會
- 替代標準
- JIS K 0143:2023
- 當前最新
- JIS K 0143:2023
- 適用范圍
- 本標準規(guī)定了用注入硼制備的經(jīng)過認證的標準樣品校準的均勻摻雜樣品測定單晶硅中硼原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法。該方法用于測定濃度范圍為1 x 10 原子/cm 至1 x 10 原子/cm 的均勻添加的硼的濃度。