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JIS K 0133:2000
高頻等離子體質譜法通用規則

General rules for high frequency plasma mass spectrometry

被代替

2007-06

標準號: JIS K 0133:2000
發布: 2000年
總頁數: 40頁
發布單位: 日本工業標準調查會
替代標準: JIS K 0133:2007
當前最新: JIS K 0133:2022

JIS K 0133:2000 中可能用到的儀器設備

電子束刻蝕

專題

正離子質譜等離子體質譜等離子體高頻感應雙等離子質譜儀高頻感應等離子體高頻感應等離子體高頻等離子體設備高頻放電等離子體高頻感應等離子炬高頻等離子電源等離子體發生高頻基質等離子體

JIS K 0133:2000相似標準

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誰引用了JIS K 0133:2000 更多引用

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